等离子体分布不均是晶圆清洗中的致命伤，直接导致部分区域表面处理不充分。根本原因有三：一是电极表面氧化层积累或积碳严重，导致放电不均匀，需用600目砂纸轻轻打磨电极，保持原有弧度，两极间距调整至3-5mm标准值；二是气体扩散板堵塞，气体无法均匀扩散至腔体各区域，需定期拆下用专用清洁剂清洗；三是晶圆摆放方式不当，堆叠过密或距离电极过远/过近都会产生清洁死角。解决方案是调整等离子体发生器参数，必要时更换发生器，同时确保晶圆表面均匀暴露在等离子体中，可使用夹具固定防止移动。对于12英寸以上大尺寸晶圆，边缘与中心清洗速率差异问题，建议集成实时光学发射光谱（OES）监测系统，动态调整气体配比，确保全片均匀性。