等离子清洗机关键工艺参数

• 气体流量：影响等离子体密度和均匀性，需根据设备类型和基板尺寸优化。

• 功率：决定等离子体能量，功率过高可能导致表面损伤，过低则处理效果不足。

• 处理时间：需平衡清洁效果与生产效率，通常在几十秒至几分钟之间。

• 真空度（低压等离子体）：影响等离子体均匀性和稳定性，一般需维持在10⁻¹~10⁻³ Torr。

• 基板温度：需控制在材料耐受范围内，避免热损伤。